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簡要描述：納米壓印支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。
產(chǎn)品型號：EVG610廠商性質(zhì)：代理商產(chǎn)品資料：更新時間：2026-04-27訪 問 量： 24321產(chǎn)品分類
Product Category詳細(xì)介紹
該設(shè)備支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并可選擇背面對準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。
EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時間僅為幾分鐘。其先進的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到專家級別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。
| 晶圓直徑 | （基板尺寸） |
| 標(biāo)準(zhǔn)光刻 | 碎片蕞大150毫米 |
| 柔軟的UV-NIL | 蕞大150毫米的碎片 |
| 解析度 | ≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） |
| 支持流程 | 柔軟的UV-NIL |
| 曝光源 | 汞光源或紫外線LED光源 |
| 自動分離功能 | 不支持 |
| 工作印章制作 | 外部 |
圖1 微鏡頭
圖2 納米壓印結(jié)果（100納米分辨率）
EVG610 納米壓印光刻系統(tǒng)作為緊湊型多功能研發(fā)級掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)，正面對準(zhǔn)精度可達 **≤±0.5μm**，背面對準(zhǔn)與紅外對準(zhǔn)精度≤±1μm，配合自動楔形誤差補償、電動配方控制曝光間隙，可有效保障多層圖形套刻精度，大幅提升微納結(jié)構(gòu)制備良率與工藝穩(wěn)定性。設(shè)備支持汞燈與新一代 UV-LED 雙曝光光源，UV-LED 方案能耗更低、波長更穩(wěn)定、壽命更長，可適配更多光敏壓印材料，進一步拓寬工藝適用范圍。
其專有的均勻接觸力卡盤設(shè)計，兼容軟質(zhì)與硬質(zhì)印章，配合可編程高低壓接觸力與印章釋放機構(gòu)，在小芯片至 150mm 基板的壓印工藝中，實現(xiàn)全域均勻壓印，有效避免圖案缺陷。設(shè)備光刻與 NIL 工藝切換僅需數(shù)分鐘，搭配分步式流程引導(dǎo)、多用戶權(quán)限管理與多語言界面，兼顧新手易用性與專家級工藝調(diào)控需求，適配高校教學(xué)、科研院所研發(fā)及企業(yè)小批量試制場景EV Group。
該系統(tǒng)可廣泛應(yīng)用于MEMS、半導(dǎo)體器件、微流控芯片、微納光學(xué)、生物芯片、先進封裝等領(lǐng)域，支持紫外光刻、鍵對準(zhǔn)、紅外對中、微接觸印刷等多種工藝，提供臺式與防震花崗巖臺單機版兩種安裝形式，以極小占地面積滿足嚴(yán)苛實驗室空間與環(huán)境要求，遠程技術(shù)支持功能可快速響應(yīng)售后需求，是微納加工研發(fā)領(lǐng)域的通用型核心裝備。
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